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伯东贸易(深圳)有限公司
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KRI夫曼射频离子源RFICP140溅射沉积立方氮化硼薄膜

发布时间:2021-05-06 15:07:53  浏览:26
 立方氮化硼(cBN)由于具有高超的硬度/ 好的化学惰性/ 较好的热稳定性/ 高的热导率/ 在宽波长范围内(约从 200nm 开始) 有很好的透光性/ 可掺杂为 n 型和 p 型半导体等特点, 在切削工具/ 耐磨材料/ 光学元件表面涂层/ 高温/ 高频/ 大功率/ 抗辐射电子器件/ 电路热沉材料和绝缘涂覆层等方有很大的应用潜力.

 

在对立方氮化硼 (cBN) 薄膜研究中, 西北某金属研究所采用伯东 KRI 夫曼射频离子源 RFICP140 辅助溅射沉积立方氮化硼 (cBN) 薄膜.

 

伯东 KRI 夫曼射频离子源 RFICP140 技术参数:

portant;">

型号

portant;">

RFICP140

portant;">

Discharge

portant;">

RFICP 射频

portant;">

离子束流

portant;">

>600 mA

portant;">

离子动能

portant;">

100-1200 V

portant;">

栅极直径

portant;">

14 cm Φ

portant;">

离子束

portant;">

聚焦, 平行, 散射

portant;">

流量

portant;">

5-30 sccm

portant;">

通气

portant;">

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

portant;">

典型压力

portant;">

< 0.5m Torr

portant;">

长度

portant;">

24.6 cm

portant;">

直径

portant;">

24.6 cm

portant;">

中和器

portant;">

LFN 2000

  

该实验中, 采用的是射频溅射沉积的方法, 沉积基片为硅片, 热压的 hBN 作为靶材, 溅射气体为 Ar 和N的混合气体.

 

磁控溅射是物理气相沉积技术中一种手段比较丰富的方法, 可以通过控制调节镀膜参数, 得到更加致密, 均匀, 结合力出色的膜层, 而且磁控溅射属于干法镀膜, 不存在电镀化学镀中的镀液腐蚀基体和废液污染问题, 从环境保护的角度来看, 磁控溅射较电镀化学镀更加绿色环保.

 

实验结果:

采用伯东 KRI 夫曼射频离子源 RFICP140 辅助溅射沉积立方氮化硼 (cBN) 薄膜时, 具有沉积的膜层颗粒尺寸小/ 薄膜中立方含量高/ 工艺可控性好等特点.

 

伯东是德国 Pfeiffer 真空泵, 检漏仪, 质谱仪, 真空计, 美国 KRI 夫曼离子源, 美国HVA 真空阀门, 美国 inTEST 高低温冲击测试机, 美国 Ambrell 感应加热设备和日本 NS 离子蚀刻机等进口知名品牌的指定代理商.

 

若您需要进一步的了解详细信息或讨论, 请参以下联络方式:

上海伯东: 罗先生                               台湾伯东: 王女士
T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn                      ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn                    www.hakuto-vacuum.com.tw

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  • 公司类型:企业单位
  • 成立时间:2005年
  • 公司规模:100-499人
  • 注册资本:未填写
  • 主营行业: 机械设备 商务服务 

    认证信息

  • 工商:「已认证,放心选购」
  • 实名:「未认证,风险」 我要认证

联系方式

  • 联系人:张婷婷 [离线]
  • 电话:0755-25473928
  • 手机:15021001340
  • 在线客服: 
  • 地址:深圳市罗湖区宝安南路1036号鼎丰大厦501室

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